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　　国家知识产权局信息显示，理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司取得一项名为“用于PECVD反应腔的清洗装置以及PECVD设备”的专利，授权公告号CN223607355U，申请日期为2024年12月。

　　专利摘要显示，本实用新型提供用于PECVD反应腔的清洗装置以及PECVD设备。清洗装置包括设置在PECVD反应腔外的第一、第二、第三、第四远程等离子体源，还包括第一、第二歧管以及第一、第二阀门、抽气装置以、及清洗模块，第一、第二远程等离子体源与第一歧管连通连接，第三、第四远程等离子体源与第二歧管连通连接，第一、第二阀门分别连接在第一、第二排气管道上，第一、第二排气管道分别连接在第一、第二歧管下端；清洗模块交替控制第一、第二远程等离子体源以及第一阀门开启或关闭，并且同时控制第三、第四远程等离子体源以及第二阀门处于相反状态，从而控制抽气装置交替从第一或第二排气管道抽出清洗后气体。本实用新型能提高清洗均匀性，减少清洗时间。

　　天眼查资料显示，理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司，成立于2017年，位于泰州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司参与招投标项目6次，专利信息48条，此外企业还拥有行政许可17个。

　　声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

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